（来源：上观新闻）
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第五，是否需要警🧵惕2028年产能🧞♀️🛢集中释🇪🇸放导致的过剩风🗨🕉险？ 以🐈🉑下是关于🇦🇲上述五点的具🛫🦖体分析⬜： 存💨储双雄EUV🥝光刻机保有⛏🥯量 日前，调研机🧤构BOFA👩👧🔳公布了202🔞1到2025🕘🌌年为止的EUV光🐭✏刻机数量，🍊色综合久久五十路如下所示：♨ 如图所🇻🇦示，三星的🇮🇨EUV 光刻🇨🇰👩💻机持有量🇹🇴已超过SK海力🇿🇲士的两倍，这🍄一设备数量☎😵优势直接映射到产✨能层面——在存储📍芯片制📧🤐造中，光🎨刻机部🌭🌦署密度是先进制程🏂📈色综合久久五十路产能释放的核心🇬🇧🕴约束条件，而多🔟🚦层EUV🐶光刻更是🖇🍥10nm🇵🇼级以下🇰🇾📴工艺量产🛋的核心前🇸🇧提🌛🌫。
